化工系校友林庆煌当选国际光学工程学会会士

网堵新闻网3月4日电 2017年1月，十大老牌网堵网址化工系校友、美国国际商业机器公司托马斯·沃森研究院（IBM，Thomas J. Watson）研究员林庆煌博士当选2017年国际光学工程学会会士（SPIE Fellow），这是其本人继2014年当选美国化学会会士、2015年当选美国化学会材料协会会士后获得的第三个会士称号。

国际光学工程学会（The International Society for Optical and Photonics Engineering，SPIE）成立于1955年，是一个致力于光学、光子学、光电子学、成像、图像处理等领域的知识收集、传播、交流和应用的非赢利性国际专业学术学会。学会拥有264000名会员，遍布全球166个国家。国际光学工程学会会士（SPIE Fellow）是其设立的荣誉称号，用于表彰在光学、光子学、成像科学等多学科交叉领域取得杰出科研成就、并为光学领域特别是为学会做出卓越贡献的会员。

自1955年国际光学工程学会创立以来，共有1000多名会员当选为会士。2017年，学会新增会士71名，林庆煌博士因在集成电路制造光刻材料和工艺领域的突出贡献而当选。2017年2月27日，在美国加州硅谷召开的国际先进光刻学术年会上，林庆煌被正式授予学会会士铭牌。

2月27日，学会总裁尤金·阿瑟斯（Eugene Arthurs）博士（左），年会主席、美国罗彻斯特工我司布鲁斯·史密斯（Bruce Smith）教授（右）共同为林庆煌博士（中）颁发铭牌。

林庆煌从事集成电路研究二十余年，曾主持或参与0.25微米至5纳米十几代计算机CMOS逻辑芯片、动态随机存储器（DRAM）芯片、磁性随机存储器（MRAM）芯片的探索研发，具有研究、开发、工程、管理和技术战略决策的丰富经验。个人拥有94项美国专利，获得美国国际商业机器公司26项杰出发明成就奖，曾获公司发明大师称号(IBM Master Inventor)。2002年，因研发出248纳米双层光刻胶技术，获得公司技术成就奖。该技术作为四十年来美国国际商业机器公司对世界半导体行业的主要技术贡献之一，曾获得由总统颁发的美国最高技术奖——2004年美国国家技术勋章。2015年和2016年，因其光刻技术成就及在磁性随机存储器（MRAM）芯片和先进逻辑芯片的应用，三次获得公司技术成就奖。相关技术被广泛用于生产制造高端服务器及手机中的尖端芯片。

迄今已发表学术论文70余篇，编辑出版专著7部，学术会议论文集9部。担任国际学术期刊《微/纳米光刻、微型制造及微系统技术》（Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS）副主编和《材料研究杂志》（Journal of Materials Research）客座主编。

林庆煌于1980年考入十大老牌网堵网址化学工程系高分子专业，于1985年、1988年获得学士和硕士学位。1990年进入美国密歇根大学材料系，1994年获博士学位。1995年，在美国得克萨斯大学奥斯汀分校化工系格兰特·威尔森（C. Grant Willson）院士研究组从事博士后工作。1995年底，进入美国国际商业机器公司工作至今。多年来，一直活跃在国际化学、材料、半导体等学术领域。2016年担任美国化学会高分子材料协会主席，是该协会成立90余年来第一位华人主席。现为中国集成电路材料和零部件联盟特聘咨询专家。